23位入围设计师竞逐2016年lvmh青年时装设计师大奖

第三届LVMH青年时装设计师大奖再次收到50多个国家/地区近1,000位设计师的报名参选。今年，经过以Louis Vuitton执行副总裁Delphine Arnault为首的内部甄选委员会的挑选，23位才华横溢的青年设计师入围半决赛。

在入选第三届LVMH大奖的时装设计师中，6位主攻男装设计，7位同时设计男装和女装，10位主攻女装设计。此外，两位入围2015届候选人的Koché和Astrid Andersen今年再次报名参赛。入围者来自日本、中国、美国、意大利、英国、芬兰、德国、法国、马来西亚及伊朗。

Delphine Arnault表示：“这就是LVMH大奖的独特性：首个完全国际化和数字化的时装大奖，这些具有多样化、原创风格的时装将齐现巴黎。”“男装仍秉承了很好的诠释方式，街头装在延续女士成衣优良传统的同时继续担当彰显个性的宣言。作为行业先驱，LVMH集团有责任确立并帮助青年新锐设计师成长。”

23位入围设计师将受邀参加41位国际时装专家的小组会议。3月2日和3日，在巴黎，将甄选出八位决赛者。6月16日，评委会将在巴黎的Louis Vuitton基金会颁发第三个年度LVMH大奖。

毕业生大奖将继续接受报名，并将于2016年5月15日截止。

23位入围设计师

Tuomas Merikoski（常驻巴黎的芬兰设计师），品牌：Aalto。女装曾亮相巴黎。

Alex Mullins（常驻伦敦的英国设计师），品牌：Alex Mullins。男装曾亮相伦敦。

Matthew Williams（常驻纽约的美国设计师），品牌：Alyx 。女装曾亮相纽约。

Astrid Andersen（常驻哥本哈根的丹麦设计师），品牌：Astrid Andersen。男装曾亮相伦敦。

Brandon Maxwell（常驻纽约的美国设计师），品牌：Brandon Maxwell。女装曾亮相纽约。

Caitlin Price（常驻伦敦的英国设计师），品牌：Caitlin Price。女装曾亮相伦敦。

Ben Cottrell和Matthew Dainty（常驻伦敦的英国设计师），品牌：Cottweiler。男装曾亮相伦敦。

Hiromichi Ochiai（常驻东京的日本设计师），品牌：Facetasm。女装和男装曾亮相东京。

Feng Chen Wang（常驻伦敦的中国设计师），品牌：Fengchen Wang。男装曾亮相伦敦和纽约。

Christelle Kocher（常驻巴黎的法国设计师），品牌：Koché。女装和男装曾亮相巴黎。

Yuko Koike（常驻东京的日本设计师），品牌：Koike。男装曾亮相东京。

Julia Männistö（常驻柏林的芬兰设计师），品牌：Männistö。男装曾亮相柏林。

Melitta Baumeister（常驻纽约的德国设计师），品牌：Melitta Baumeister。女装曾亮相纽约。

Mikio Sakabe和Hsueh Jenfang（常驻东京的日本设计师），品牌：Mikio Sakabe。女装和男装曾亮相东京。

Moto Guo（常驻吉隆坡的马来西亚设计师），品牌：Moto Guo。中性装曾亮相佛罗伦萨和巴黎。

Ms Min（常驻厦门的中国设计师），品牌：Min Liu。女装曾亮相伦敦和巴黎。

Soshi Otsuki（常驻东京的日本设计师），品牌：Soshi Otsuki。男装曾亮相东京。

Shirin和Shiva Vaqar（常驻台湾的伊朗设计师），品牌：Vaqar。女装曾亮相德黑兰。

Vejas Kruszewski（常驻多伦多的加拿大设计师），品牌：Vejas。女装和男装曾亮相纽约。

Grace Wales Bonner（常驻伦敦的英国设计师），品牌：Wales Bonner。女装和男装曾亮相伦敦。

Johanna Senyk（常驻巴黎的法国设计师），品牌：Wanda Nylon。女装曾亮相巴黎。

Xuzhi Chen（常驻伦敦的中国设计师），品牌：Xu Zhi。女装曾亮相伦敦。

Glenn Martens（常驻巴黎的比利时设计师），品牌：Y/Project。女装和男装曾亮相巴黎。